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2022-5
6

檢測等離子清洗機處理效果的簡便方法有哪些?
等離子清洗技術可以對材料表面進行微粒污染物去除，使材料表面更利于粘接或印刷，被清除的污染物主要為微粒污染物，如有機物、環氧樹脂、光刻膠、氧化物、微顆粒污染物等等。那么，在利用等離子體進行清洗后，如何檢測其清洗效果呢?有什么簡便的方法嗎?在使用等離子清洗機批量處理產品之前，通常會預先對樣品進行處理，效果達到預期后再對產品進行批量處理，這樣更能保證效率。在眾多檢測方法中，水滴角(接觸角)測量儀測試與達因筆測試是較常用的2種方法,利用一些專用儀器或特殊工藝效果來板應清洗效果的方法也...
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2022-4
28

簡單明了的采血管采集順序指南
不同采血管的采集順序1、血培養瓶2、檸檬酸鈉抗凝采血管（藍、黑）3、血清采血管，包括有促凝劑和/或分離膠（紅、黃）4、含有或不含分離膠的肝素抗凝采血管（綠）5、有/無分離膠的EDTA抗凝采血管（紫）6、葡萄糖酵解抑制采血管（灰）真空負壓采血管類型及適用檢測范圍注1：用于分子檢測的采血管宜置于肝素抗凝采血管前采集，避免可能的肝素污染引起PCR反應受抑。注2：用于微量元素檢測的采血管宜充分考慮前置采血管中添加劑是否含有所檢測的微量元素，必要時單獨采集；不宜使用注射器采集。使用蝶翼...
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2022-4
27

等離子清洗機如何解決產品的散熱問題？
工業量產型等離子清洗機連續運行的時間常常會在八個小時以上，在這種情況下，等離子清洗機的真空反應腔室內的所有部件，包括反應腔本體、電極板、托架以及附件等表面溫度比較高，如果沒有相關配套的冷卻循環系統，取放產品或材料不帶隔熱手套容易被燙傷;同時處理環境溫度過高，對于一些不耐溫的產品或材料，就會引發物理形變、表面變色或燒焦等現象，甚至影響等離子處理效果。那么等離子清洗機處理產品的散熱問題如何解決呢?這可是行業的一大痛點，今天我們小編想和大家共同探討一下。一、清洗機處理產品或材料的反...
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2022-4
22

等離子清洗機和超聲波清洗機的區別有哪些？
等離子清洗機和超聲波清洗機的區別有哪些?首先一種干法清洗，主要清洗很微小的氧化物和污染物。它是用工作氣體在電磁場的作用下激發出等離子體與物體表面產生物理和化學反應，從而達到清洗的目的;而超聲波清洗機是一種濕法清洗，主要是清洗很明顯的灰塵和污染物，屬于一種粗略的清洗。它是用液體(水或者溶劑)在超聲波的震動作用下對物體進行清洗，從而達到清洗的目的。等離子清洗原理與超聲波原理不同，當艙體里接近真空狀態時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產生等離子體，并且伴隨輝光放電現象，等離子體在...
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2022-4
19

水冷在等離子清洗機上面具體有哪些運用？
真空等離子處理大部分材料的時候，溫度其實是不高的，不過也有部分情況，比如清洗機用來去膠渣，或者處理難以解決的石墨材料，溫度就會變得很高。去膠渣需要用中頻電源，功率大，能量猛，真空腔里面的離子不斷轟擊電極板，真空腔里面的溫度會直接上升。這種時候需要給真空腔里面加水冷。另外像石墨這種類型的材料，處理起來比較艱難，為了達到理想的處理效果，處理一次甚至要達到30分鐘以上，清洗機由于長時間的工作，里面的溫度也會變得很高，這種情況下也需要加水冷。清洗機真空腔里面的溫度過度會引發很多的問題...
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2022-4
14

在等離子清洗機使用中如何提高硅橡膠表面的親水性能？
在等離子清洗機中，如何提高硅橡膠表面的親水性能，達到了工藝要求。在等離子清洗機中，能量一般在幾到幾十電子伏特，結合鍵的能量比高分子材料(十多個電子伏特)高，有機大分子的化學鍵可以*被破壞而形成新的鍵。然而，相對于高能射線，它只涉及表面層，并不影響其性能。在等離子體中，處于非熱力學平衡狀態的電子具有很高的能量，會使材料表面層中分子的化學鍵斷裂，在適宜的工藝條件下，利用等離子表面處理機進行處理，將表面的污漬清洗干凈。在提高表面性能的同時，在不同官能團中加入O2，使得表層由非極性轉...
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2022-4
12

等離子清洗機在醫療行業中有哪些作用？
等離子清洗機也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質的一種狀態，也叫做物質的第四態，并不屬于常見的固液氣三態。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發態的核素(亞穩態)、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔、涂覆等目的。下面小編給大家講講等離子清洗機在醫療行業中的應用：1.靜脈輸液器：輸...
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2022-4
7

等離子清洗機在半導體制造中的應用
等離子體輔助清洗技術是一種先進制造工業中的精密清洗技術，在許多工業領域都可以運用到這種清洗技術，下面為大家介紹一下，等離子清洗機清洗技術在半導體制造中的應用。化學氣相沉積(CVD)和刻蝕被廣泛應用于半導體加工過程中，利用CVD可以沉積多晶硅薄膜、氮化硅薄膜、二氧化硅薄膜和金屬薄膜(如鎢)。此外，微三級管及電路中起連接作用的細導線也是在絕緣層上通過CVD工藝制成的。在CVD過程中，部分殘留物會沉積到反應腔室內壁上。這里的風險是，這些殘留物會從內壁上脫離，對后續的循環過程造成污染...
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